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挑戰(zhàn)ASML!應(yīng)用材料推出新設(shè)備簡(jiǎn)化芯片生產(chǎn)流程,英特爾已入局

來源:英特爾 編輯:小小 2023-03-01 14:11:56
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圖片來自網(wǎng)絡(luò)/侵刪

  總部位于美國(guó)加州的半導(dǎo)體設(shè)備商應(yīng)用材料開始一款芯片制造設(shè)備,有望減少超強(qiáng)芯片的生產(chǎn)成本,降低芯片生產(chǎn)行業(yè)對(duì)ASML的依賴。

  這款名為Centura Sculpta的圖形成型系統(tǒng)可幫助客戶減少光刻時(shí)間。應(yīng)用材料表示,光刻技術(shù)日益復(fù)雜且成本昂貴,新的方法可簡(jiǎn)化芯片生產(chǎn)流程、減少浪費(fèi)。

  應(yīng)用材料在一份聲明中援引英特爾公司的說法稱,雙方在優(yōu)化Centura Sculpta方面密切合作,英特爾將使用該技術(shù)。
  文章來源:http://www.cjgs.cn/html/keji/2023_03/01/187725.html

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